[15p-311-1~18] 6.4 薄膜新材料

△ [15p-311-7] 反応性マグネトロンスパッタ法を用いたNbH薄膜のエピタキシャル成長

〇(B)笹原 悠輝¹、清水 亮太¹、杉山 一生¹、大口 裕之²、白木 将²、折茂 慎一^2,3、一杉 太郎^1,2 (1.東工大物質理工、2.東北大AIMR、3.東北大金研)

キーワード：金属水素化物、エピタキシャル成長、マグネトロンスパッタ

金属水素化物において、詳細な物性研究に必要なエピタキシャル薄膜の合成例は少ない。我々のグループでは反応性マグネトロンスパッタ法を用いた、単相のTiH₂薄膜のエピタキシャル成長を報告した。水素化物の精緻な物性研究に向けた次なるステップとして、Ti以外の金属水素化物の薄膜合成とその成長方位制御を実現する必要がある。そこで、本研究ではNbHに着目し、そのエピタキシャル成長を試みたので報告する。