2017年第64回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

6 薄膜・表面 » 6.4 薄膜新材料

[15p-311-1~18] 6.4 薄膜新材料

2017年3月15日(水) 13:15 〜 18:15 311 (311)

篠田 健太郎(産総研)、中村 吉伸(東大)、名村 今日子(京大)

15:15 〜 15:30

[15p-311-8] 反応性マグネトロンスパッタ法を用いた単相MgH2薄膜のエピタキシャル成長

〇(B)柿木園 拓矢1、清水 亮太1、杉山 一生1、大口 裕之2、折茂 慎一2,3、一杉 太郎1,2,4 (1.東工大物質理工、2.東北大AIMR、3.東北大金研、4.JST-CREST)

キーワード:金属水素化物、エピタキシャル、マグネトロンスパッタ