[15p-318-1~11] CS.4 7. コードシェアセッション：ビーム応用大分類

[15p-318-2] 中性子用蒸着Gd格子の作製とX線顕微鏡による評価

〇佐本 哲雄^1,2、高野 秀和^1,2、百生 敦^1,2 (1.JST ERATO百生PJ.、2.東北大多元研)

キーワード：中性子位相イメージング、X線顕微鏡、微細加工

中性子位相イメージングのためのキーデバイスである中性子吸収型回折格子の作製プロセスを検討した．ガドリニウムGdの斜方蒸着による格子作製法は大面積化が可能であるが，シャドウイングによる空隙が多い膜構造が形成されやすくGd密度が減少し，中性子吸収機能が低下する．我々は斜方蒸着Gd格子を作製し，Gd密度をX線顕微鏡の３次元CT像で観察した．この結果，Si側壁のスキャロップを低減する空隙低減プロセスを示した．