[15p-412-1~18] 6.2 Carbon-based thin films

△ [15p-412-8] The effect of gas residence time on electronic properties of amorphous carbon films grown by radical injection plasma enhanced chemical vapor deposition

〇Hirotsugu Sugiura¹, Lingyun Jia¹, Hiroki Kondo¹, Kenji Ishikawa¹, Keigo Takeda¹, Makoto Sekine¹, Masaru Hori² (1.Nagoya Univ. Eng., 2.Nagoya Univ. Inst. of Innovation for Future Society)

Keywords:amorphous carbon, DLC, PECVD

a-Cは、 sp²-Cとsp³-Cから構成される非晶質炭素材料である。しかしながらPECVD法における a-C 膜の成膜機構は十分明らかになっていない。特に、その電子物性制御においては、 気相領域から成膜表面までの包括的な反応機構、膜構造や電子物性との相関を明らかにすることが求められる。 本講演ではラジカル注入型PECVD 法を用いた a-C 膜の成膜において、ガス滞在時間が a-C 膜の光学的バンドギャップや導電率に及ぼす効果を報告する。