2017年第64回応用物理学会春季学術講演会

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シンポジウム(口頭講演)

シンポジウム » 多様な光源により進展する光プロセスの基礎と応用

[15p-418-1~12] 多様な光源により進展する光プロセスの基礎と応用

2017年3月15日(水) 13:30 〜 18:30 418 (418)

細川 陽一郎(奈良先端大)、坂倉 政明(京大)、鳥塚 健二(産総研)

16:00 〜 16:30

[15p-418-7] レーザープラズマ極端紫外光による微細加工

牧村 哲也1、浦井 ひかり1、中村 大輔3、高橋 昭彦3、新納 弘之4、岡田 龍雄2 (1.筑波大院数理、2.九大院シス情、3.九大院医、4.産総研)

キーワード:レーザープラズマ輻射極端紫外光、シリコーン、微細加工

短波長光による加工について概観し、さらに我々が行ってきたナノ秒レーザープラズマ極端紫外光によるアブレーション加工について述べる。波長が短いことおよび光子エネルギーが大きいことを利用して、アブレーション現象を研究し、シリカガラス(SiO2)、アクリル樹脂(PMMA)、シリコーンゴム(PDMS)の精密なマイクロ・ナノ加工を実現してきた。