2017年第64回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

シンポジウム(口頭講演)

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[15p-512-1~9] ナノインプリント技術の進展と展開

2017年3月15日(水) 13:30 〜 18:00 512 (511+512)

横尾 篤(NTT)、廣島 洋(産総研)

14:45 〜 15:15

[15p-512-3] ナノインプリントにおけるレジスト分子挙動の理論解析

安田 雅昭1、平井 義彦1 (1.大阪府大院工)

キーワード:ナノインプリント、分子動力学、分子挙動

ナノインプリントによる数10nm以下の極微細構造形成においては,レジスト材料の分子挙動が成型性に影響を及ぼすことが予想されるため,分子レベルの材料構造解析の必要性が高くなる.本講演では,分子動力学法を中心としたシミュレーションによりナノインプリントにおけるレジスト中の分子挙動と成型性の関係を解析した例を紹介する.