[15p-512-1~9] ナノインプリント技術の進展と展開

[15p-512-4] 半導体製造用ナノインプリントリソグラフィ技術

〇東木 達彦^1,2 (1.東芝、2.NFT)

キーワード：半導体、ナノインプリント、リソグラフィ

我々は、テンプレートに描画されたデバイスパターンを直接ウエハに転写するナノインプリント（nano inprint lithography, NIL）の研究開発を進めてきた。NILは重ね合わせ精度と欠陥制御が大きな課題だった。本報告では、ナノインプリントリソグラフィの現在の開発状況と将来の半導体デバイス応用及び量産展開に関して報告する。