[16a-E206-1~13] 13.4 Si wafer processing /Si based thin film /Interconnect technology/ MEMS/ Integration technology

[16a-E206-1] Cleanroom-Free Environment Control System for Minimal PLAD(Ⅱ)

〇Takashi Yajima^1,2, Masaharu Yasui^1,2, Sommawan Khumpuang^1,2, Hitoshi Maekawa^1,2, Shiro Hara^1,2 (1.AIST, 2.MINIMAL)

Keywords:minimal fab

我々は、ミニマルファブの局所クリーン化搬送システムにおける前室システムの研究開発を行っている。前報告で、前室に供給するクリーンエア流量を圧力変動に応じて制御し、内部の差圧を一定に保つシステムを提案した。本報告では、この方法がクリーン化に本当に必要かどうかを検証した。その結果、前室内部の体積変化を受動的に補償して圧力コントロールを行う方法に比べ、クリーン化性能において優れていることが分かった。