[17a-315-1~15] 8.3 プラズマ成膜・表面処理

[17a-315-13] 磁場印加型イオン成膜装置内部の荷電粒子ダイナミクスに関するシミュレーション

〇(M2)福田 雅人¹、臼井 英之¹、三宅 洋平¹、山本 兼司²、奈良井 哲²、水野 雅夫²、二井 裕瑛² (1.神戸大シス研、2.神戸製鋼所)

キーワード：AIP装置、PICシミュレーション、プラズマ成膜