[17a-411-1~11] 6.1 強誘電体薄膜

△ [17a-411-6] 元素置換サイト設計による室温マルチフェロイックGaFeO₃型酸化物薄膜の磁気誘電特性制御

〇片山 司¹、安井 伸太郎¹、濵嵜 容丞¹、越阪部 拓也¹、伊藤 満¹ (1.東工大)

キーワード：マルチフェロイック、酸化物薄膜、パルスレーザー堆積法

室温で強誘電性とフェリ磁性を併せ持つGaFeO₃型薄膜は、新たな室温マルチフェロイック材料として注目を集めている。本研究では室温での良質な強誘電性と磁化の大きなフェリ磁性を併せ持つマルチフェロイック材料を目指し、GaFeO₃型薄膜を基にした材料探索を行った。