PDF ダウンロード スケジュール 16 いいね! 2 コメント (0) 13:00 〜 13:15 △ [17p-304-1] スパッタリング法によるY2O3-HfO2強誘電体エピタキシャル薄膜作製とその評価 〇(M1)鈴木 大生1、三村 和仙2、清水 荘雄3、内田 寛4、舟窪 浩1,2,3 (1.東工大物院、2.東工大総理工、3.東工大元素、4.上智大理工) キーワード:ハフニウム、強誘電体薄膜