[17p-E206-1~7] 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・配線・MEMS・集積化技術

△ [17p-E206-2] 水浸ラマン分光法による酸化膜被覆型Siナノワイヤの異方性二軸応力評価

〇横川 凌¹、鈴木 貴博¹、橋本 修一郎²、麻田 修平²、富田 基裕^2,3、渡邉 孝信²、小椋 厚志¹ (1.明治大理工、2.早大理工、3.学振特別研究員PD)

キーワード：Siナノワイヤ、ラマン分光法