17:00 〜 17:15 △ [20p-438-13] プラズマ曝露によりシリコン窒化膜中に形成された欠陥構造の窒素雰囲気アニールに関する検討 〇久山 智弘1、吉川 侑汰1、佐藤 好弘1、占部 継一郎1、江利口 浩二1 (1.京大院工)