09:00 〜 09:15
〇(PC)宮西 宏併1、弘中 陽一郎1、栗田 隆史2、重森 啓介1、松岡 健之1、尾崎 典雅1、三浦 永祐3、渡利 威士2、水田 好雄2、壁谷 悠希2、加藤 義則2、栗田 典夫2、黒田 隆之助3、兒玉 了祐1 (1.阪大、2.浜松ホトニクス、3.産総研)
一般セッション(口頭講演)
3 光・フォトニクス » 3.7 レーザープロセシング
2018年9月20日(木) 09:00 〜 11:45 224A (224-1)
△:奨励賞エントリー
▲:英語発表
▼:奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄:どちらもなし
09:00 〜 09:15
〇(PC)宮西 宏併1、弘中 陽一郎1、栗田 隆史2、重森 啓介1、松岡 健之1、尾崎 典雅1、三浦 永祐3、渡利 威士2、水田 好雄2、壁谷 悠希2、加藤 義則2、栗田 典夫2、黒田 隆之助3、兒玉 了祐1 (1.阪大、2.浜松ホトニクス、3.産総研)
09:15 〜 09:30
〇弘中 陽一郎1、壁谷 悠希2、宮西 宏併1、重森 啓介1、松岡 健之1、尾崎 典雅1、兒玉 了祐1、栗田 隆史2、渡利 威士2、水田 好雄2、加藤 義則2、三浦 永祐3、黒田 隆之助3 (1.大阪大学、2.浜松ホトニクス、3.産総研)
09:30 〜 09:45
〇(B)西岡 直樹1,2、梅田 悠史1、船本 祐介1、島 大地1、倉前 宏行1、神村 共住1、堀邊 英夫3、吉村 政志2、中村 亮介2 (1.大阪工業大学、2.大阪大学、3.大阪市立大学)
09:45 〜 10:00
〇岩田 博之1、坂 公恭2、河口 大祐2 (1.愛知工業大、2.浜松ホトニクス)
10:00 〜 10:15
河口 大祐1、岩田 博之2、〇坂 公恭2 (1.浜ホト、2.愛工大)
10:30 〜 10:45
〇中野 秀俊1、尼子 淳1 (1.東洋大理工)
10:45 〜 11:00
〇中嶋 聖介1、岡部 凌平1、水谷 梨乃1、石田 明広1 (1.静岡大工)
11:00 〜 11:15
〇欠端 雅之1、屋代 英彦1、鳥塚 健二1 (1.産総研 電子光)
11:15 〜 11:30
〇宮川 鈴衣奈1、江龍 修1 (1.名工大)
11:30 〜 11:45
〇谷 峻太郎1、小林 洋平1 (1.東大物性研)
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