一般セッション(ポスター講演)
13 半導体 » 13.3 絶縁膜技術
2018年9月20日(木) 09:30 〜 11:30 PA (イベントホール)
△：奨励賞エントリー
▲：英語発表
▼：奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄：どちらもなし
09:30 〜 11:30
〇奥 友希1、戸塚 正裕1、佐々木 肇1 (1.三菱電機)
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09:30 〜 11:30
〇堀田 將1 (1.北陸先端大)
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09:30 〜 11:30
〇矢島 雄司1、白石 賢二2,4、遠藤 哲郎3,4、影島 博之1,4 (1.島根大、2.名古屋大、3.東北大、4.JST-ACCEL)
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09:30 〜 11:30
〇鈴木 宏之1、上野 智雄2、内山 博幸3、倉知 郁生4、吉岡 献太郎1 (1.天谷製作所、2.東京農工大、3.日立製作所、4.D&S Inc.)
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09:30 〜 11:30
〇棚橋 優策1、小川 慎吾1、井上 敬子1、杉本 智美1、清水 夕美子1、小坂 志乃1、関 洋文1 (1.東レリサーチセンター)
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09:30 〜 11:30
〇(M2)名倉 拓哉1、長川 健太1、洗平 昌晃1,2、細井 卓治3、渡部 平司3、押山 淳2、白石 賢二1,2 (1.名大院工、2.名大未来研、3.阪大院工)
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09:30 〜 11:30
〇(M2)山口 真司1、小林 清輝1 (1.東海大院工)
スケジュール
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09:30 〜 11:30
〇(M2)岸田 拓朗1、小林 清輝1 (1.東海大院工)
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09:30 〜 11:30
安田 脩平1、柴山 茂久1、〇西村 知紀1、矢嶋 赳彬1、右田 真司2、鳥海 明1 (1.東大院工、2.産総研)
スケジュール
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09:30 〜 11:30
〇(D)尹 尚希1、安 大煥1、竹中 充1、高木 信一1 (1.東京大学)
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09:30 〜 11:30
〇小川 隼平1、黒田 達也1、加藤 那征1、丹羽 一宏1、石崎 博基1 (1.埼工大工)
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09:30 〜 11:30
〇黒田 達也1、小川 隼平1、加藤 那征1、丹羽 一宏1、石崎 博基1 (1.埼工大工)
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09:30 〜 11:30
〇和知 祥太郎1、渡邉 龍一郎1、北原 義典1、岩崎 好孝1、山田 浩史1、上野 智雄1、並木 美太郎1 (1.農工大院工)
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09:30 〜 11:30
〇(D)Weichen Wen1、Keisuke Yamamoto1、Dong Wang1、Hiroshi Nakashima2 (1.IGSES, Kyushu Univ.、2.GIC, Kyushu Univ.)
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