一般セッション(口頭講演)
6 薄膜・表面 » 6.2 カーボン系薄膜
2018年9月20日(木) 13:15 〜 19:30 222 (222)
青野 祐美(防衛大)、針谷 達(豊橋技科大)、寺地 徳之(物材機構)、加藤 有香子(産総研)
△：奨励賞エントリー
▲：英語発表
▼：奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄：どちらもなし
13:15 〜 13:30
〇寺地 徳之1、渡邊 賢司1 (1.物材機構)
スケジュール
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13:30 〜 13:45
〇山田 英明1、茶谷原 昭義1、大曲 新矢1、朝原 友紀1、杢野 由明1、竹内 大輔1 (1.産総研)
スケジュール
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13:45 〜 14:00
〇桝谷 聡士1、嘉数 誠1 (1.佐賀大院工)
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14:00 〜 14:15
〇鹿田 真一1、松山 悠夏1、寺地 徳之2 (1.関学大理工、2.物材機構)
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14:15 〜 14:30
〇(M2)松下 晃生1、松岡 実李1、藤森 直治2、堂島 大地1、小出 和典1、金子 忠昭1、鹿田 真一1 (1.関学大理工、2.㈱EDP)
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14:30 〜 14:45
〇海老澤 芽依1、児玉 英之1、鈴木 一博2、澤邊 厚仁1 (1.青学大理工、2.トウプラスエンジニアリング)
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14:45 〜 15:00
〇加藤 有香子1、辻川 大地2、橋本 由介2、吉田 泰輔2、深見 駿2、小倉 政彦1、松田 博之2、田口 宗孝2、松下 智裕3、大門 寛2 (1.産業技術総合研究所、2.奈良先端科学技術大学院大学、3.高輝度光科学研究センター)
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15:00 〜 15:15
〇福田 玲1、村上 洋平1、山本 直也1、石川 史太郎1,2、松下 正史1,2、新名 亨2、大藤 弘明2、入舩 徹男2 (1.愛媛大工、2.愛媛大 GRC)
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15:15 〜 15:30
〇吉武 剛1、アブバクル エスラム1,2、ゼクリア アブデルラーマン1,2、片宗 優貴3、大曲 新矢4、池上 浩5 (1.九州大学総理工、2.アスワン大学、3.九州工業大学、4.産業技術総合研究所、5.九州大学GLP)
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15:30 〜 15:45
〇古賀 祥泰1、栗田 一成1 (1.株式会社 ＳＵＭＣＯ)
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16:00 〜 16:15
〇吉武 剛1、エギザ モハメド1,2、村澤 功基1,3、アリ アリ モハメド4、福井 康夫3、権田 英修3、櫻井 正俊3 (1.九州大学総理工、2.カフルシェイフ大、3.オーエスジー（株）、4.アル-アズハル大)
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16:15 〜 16:30
〇中村 挙子1、大花 継頼1、土屋 哲男1 (1.産総研)
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16:30 〜 16:45
〇(M1)鬼頭 大海1、平塚 傑工3、中森 秀樹3、本間 章彦1、平栗 健二2、大越 康晴1 (1.電大理工、2.電大工、3.ナノテック（株）)
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16:45 〜 17:00
〇杉江 侑哉1、谷本 壮1、爲國 公貴1、針谷 達1、須田 善行1、滝川 浩史1、角口 公章1、國次 真輔2、神谷 雅男3、瀧 真4 (1.豊橋技科大、2.岡山県工技センター、3.伊藤光学、4.オンワード技研)
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17:00 〜 17:15
〇出貝 敏1、針谷 達1、爲國 公貴1、谷本 壮1、須田 善行1、滝川 浩史1、権田 英修2、神谷 雅男3、瀧 真4 (1.豊橋技科大、2.オーエスジーコーティングサービス、3.伊藤光学工業、4.オンワード技研)
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17:15 〜 17:30
〇爲國 公貴1、針谷 達1、出貝 敏1、谷本 壮1、須田 善行1、滝川 浩史1、安井 治之2、金子 智3、國次 真輔4、神谷 雅男5、瀧 真6 (1.豊橋技科大、2.石川工試、3.神奈川県立産総研、4.岡山県工技セ、5.伊藤光学、6.オンワード技研)
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17:45 〜 18:00
〇関崎 千歳1、董 福1、斎藤 秀俊1、伊藤 治彦1 (1.長岡技科大工)
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18:00 〜 18:15
〇飯澤 仁規1、斎藤 秀俊1、伊藤 治彦1 (1.長岡技科大工)
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18:15 〜 18:30
〇新部 正人1、鈴木 哲1、徳島 高1 (1.兵庫県大高度研)
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18:30 〜 18:45
〇小坂 舞人1、浦上 法之1,2、橋本 佳男1,2 (1.信州大工、2.信大カーボン研)
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18:45 〜 19:00
〇(B)青山 宏明1、安田 和史1、羽渕 仁恵1、飯田 民夫1、滝川 浩史2 (1.岐阜高専、2.豊橋技科大)
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19:00 〜 19:15
〇(B)安田 和史1、青山 宏明1、羽渕 仁恵1、滝川 浩史2 (1.岐阜工業高等専門学校、2.豊橋技術科学大学)
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19:15 〜 19:30
〇財部 健一1、平井 正明1、匠 正治2、永田 潔文2、山崎 大輔3 (1.岡山理科大、2.福岡大、3.岡大惑星研)
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