The 79th JSAP Autumn Meeting, 2018

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Oral presentation

15 Crystal Engineering » 15.3 III-V-group epitaxial crystals, Fundamentals of epitaxy

[18p-234B-1~19] 15.3 III-V-group epitaxial crystals, Fundamentals of epitaxy

Tue. Sep 18, 2018 1:15 PM - 6:30 PM 234B (234-2)

Takeo Kageyama(QD Laser), Ryo Nakao(NTT), Itaru Kamiya(Toyota Technological Institute)

6:00 PM - 6:15 PM

[18p-234B-18] Influence of lattice relaxation anisotropy on relaxation processes of GaAsSb/GaAs(001)

〇(M2)Masaya Yuuki1, Syouta Nogawa1, Arai Masakazu1, Yoshio Ohshita2, Takuo Sasaki3, Masamitsu Takahasi3, Hidetoshi Suzuki1 (1.Miyazaki Univ., 2.Toyota inst., 3.Quantum inst.)

Keywords:lattice relaxation anisotropy

多接合型太陽電池の格子不整合材料の積層によって発生する転位を低減させるために各層での歪み緩和を理解することが重要となる。III-V族化合物半導体は歪み緩和過程に異方性が生じ最終的な結晶性に影響を与えることが見出されている。そこで本研究ではIII-V-V’型であるGaAsSbに着目した。本報告では、GaAsSb/GaAs(001)の格子緩和過程をその場三次元X線逆格子マッピング(3D-RSM)で評価し、構成元素の違いが歪み緩和過程に与える影響を明らかにすることを目的とした。