The 79th JSAP Autumn Meeting, 2018

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Oral presentation

15 Crystal Engineering » 15.3 III-V-group epitaxial crystals, Fundamentals of epitaxy

[18p-234B-1~19] 15.3 III-V-group epitaxial crystals, Fundamentals of epitaxy

Tue. Sep 18, 2018 1:15 PM - 6:30 PM 234B (234-2)

Takeo Kageyama(QD Laser), Ryo Nakao(NTT), Itaru Kamiya(Toyota Technological Institute)

5:45 PM - 6:00 PM

[18p-234B-17] Layer Thickness Dependence of Mid-Infrared Luminescence Properties in InAs /GaAsSb Superlattice Grown by MOVPE

Kouji Maeda1, Ryosuke Wakaki1, Yuya Yamagata1, Masakazu Arai1 (1.Univ. of Miyazaki)

Keywords:type II superlattice, Mid-Infrared Luminescence, MOVPE

MOVPE法により中赤外発光素子を目的として、系統的にInAs /GaSb 超格子構造を作製し、層厚の違いによる発光特性の変化を調査した。XRDにより、回折ピーク位置は、InAs層の膜厚を変化させた際にはあまり変化しないが、GaSb層の膜厚を変化させた際には大きく変化した。これは、残留ガスの影響の可能性もある。測定できた5µm以下の波長で20Kで発光が得られた。