2018年第79回応用物理学会秋季学術講演会

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[18p-PB3-1~95] 17 ナノカーボン(ポスター)

2018年9月18日(火) 16:00 〜 18:00 PB (白鳥ホール)

16:00 〜 18:00

[18p-PB3-45] グラフェンデバイスの接合抵抗の改善に関する研究

金 多恩1、Subagyo Agus2、纐纈 ゆかり1、八田 英嗣1、末岡 和久1 (1.北大院情報科学、2.北大創成研)

キーワード:グラフェン、グラフェンデバイス、接合抵抗

グラフェンを応用する電子デバイスにおいて、グラフェン/電極間の接合抵抗はデバイス性能を左右する極めて重要なパラメータである。本研究では、低抵抗なグラフェン接合を実現する目的として清浄なグラフェンエッジを接合するグラフェンデバイスの作製を試みた。グラフェンを切断するドライエッチング時のエッチングマスクとしてレジストと絶縁酸化物を検討し、TLM法を用いて評価した。