The 79th JSAP Autumn Meeting, 2018

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Oral presentation

15 Crystal Engineering » 15.7 Crystal characterization, impurities and crystal defects

[19a-131-1~11] 15.7 Crystal characterization, impurities and crystal defects

Wed. Sep 19, 2018 9:00 AM - 12:00 PM 131 (131+132)

Kazuhisa Torigoe(SUMCO), Takuo Sasaki(QST)

10:45 AM - 11:00 AM

[19a-131-7] Diffusion model for bulk and surface recombination of free carriers in silicon wafer: III. Exact solution with laser-damping included

Hiroshi Kaneta1, Ichiro Omura1 (1.Kyushu Inst. of Tech.)

Keywords:silicon wafer, bulk lifetime, surface recombination

前々回の秋季講演会にて、シリコンウェーハにおいて表面再結合が起きている場合でも、その効果を理論的に分離・除外することによって、自由キャリアのバルク寿命を評価する方法の理論を示した。今回は、その理論においては無視していたキャリア励起用レーザのウェーハ内減衰の効果も取り入れた場合の厳密解を示す。