2018年第79回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

13 半導体 » 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・配線・MEMS・集積化技術

[19a-233-1~11] 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・配線・MEMS・集積化技術

2018年9月19日(水) 09:00 〜 12:00 233 (233)

米谷 玲皇(東大)

11:45 〜 12:00

[19a-233-11] 3-5族/Si太陽電池の界面特性改善に向けた パターニング金属中間層の導入

〇(M1)菱田 貴史1、梁 剣波1、重川 直輝1 (1.大阪市大院工)

キーワード:表面活性化接合法、パターニング金属、太陽電池

我々は表面活性化接合法によって3-5族/Si太陽電池の作製に成功しているが、高い界面抵抗が問題となっている。解決策として接合界面にエミッタ電極と同じ形状のパターニング金属と、その周りを絶縁層で覆った金属層を形成し、3-5族/パターニング金属接合を形成することで、界面抵抗改善が見込まれる。本研究はSi/パターニングAl/Si接合を作製し、その電気特性と構造評価を行った。