[19a-234B-1~9] 6.4 薄膜新材料

[19a-234B-8] 水蒸気を用いた酸化タンタル薄膜の高速スパッタ成膜

〇伊藤 勇佑¹、阿部 良夫¹、川村 みどり¹、金 敬鎬¹、木場 隆之¹ (1.北見工大)

キーワード：酸化タンタル、反応性スパッタリング、プロトン伝導性固体電解質

Ta₂O₅はプロトン伝導性固体電解質への適用が検討されているが、スパッタ法で作製したTa₂O₅薄膜は堆積速度が遅いという課題がある。本研究ではTa₂O₅薄膜の高速成膜を目的とし、水蒸気スパッタ法の適用を検討した。スパッタガスにはArと水蒸気の混合ガスを用い、水蒸気は基板表面に直接吹き付けた。基板温度が室温の時は堆積速度が2.5 nm/minと遅いが、-170 ℃では50 nm/minに増加した。以上の結果から本方法はTa₂O₅薄膜の高速成膜技術として有望と考えられる。