The 79th JSAP Autumn Meeting, 2018

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Oral presentation

13 Semiconductors » 13.7 Compound and power electron devices and process technology

[20a-331-1~13] 13.7 Compound and power electron devices and process technology

Thu. Sep 20, 2018 9:00 AM - 12:30 PM 331 (International Conference Room)

Yusuke Kumazaki(Fujitsu Lab.)

11:45 AM - 12:00 PM

[20a-331-11] Temperature Dependence of Barrier Height for Ni/n-GaN Schottky Barrier Diodes with Various Donor Concentrations

〇(M1)Ryosuke Murase1, Takuya Maeda2, Kazutaka Kanegae2, Masahiro Horita2, Jun Suda1,2,3 (1.Nagoya Univ., 2.Kyoto Univ., 3.IMaSS)

Keywords:Schottky Barrier Diode, Barrier Height, GaN

Ni/n-GaN SBDの普遍的な現象解明のために、先行研究と異なるドナー密度で複数のNi/n-GaN SBDを作製し、C-V 測定により障壁高さの温度依存性を評価した。障壁高さは試料ごとに多少異なるが、その温度依存性は-(2.1~2.2) ×10-4 eV/Kと、ドナー密度に関わらず同一の結果が得られた。2桁異なるドナー密度のSBDにおいても障壁高さの温度依存性は同一であり、この温度依存性はNi/n-GaN SBDの普遍的な特性を反映していると考えられる。