2018年第79回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

8 プラズマエレクトロニクス » 8.2 プラズマ成膜・エッチング・表面処理

[20a-438-1~12] 8.2 プラズマ成膜・エッチング・表面処理

2018年9月20日(木) 09:00 〜 12:15 438 (3Fラウンジ)

布村 正太(産総研)

11:45 〜 12:00

[20a-438-11] Siネットワーク秩序性に対する製膜前駆体の効果

古閑 一憲1、田中 和真1、原 尚志1、石 榴1、中野 慎也1、山下 大輔1、鎌瀧 晋礼1、板垣 奈穂1、白谷 正治1 (1.九大シス情)

キーワード:プラズマCVD、シリコン結合構造