[20a-438-1~12] 8.2 プラズマ成膜・エッチング・表面処理

[20a-438-7] 大気圧μプラズマDLC成膜における基板温度、H₂添加の効果

〇吉木 宏之¹、佐藤 順樹¹、丸藤 好恭^1,2 (1.鶴岡高専、2.キャノン電子)

キーワード：大気圧マイクロプラズマ、ダイヤモンド状炭素膜、プラズマCVD

注射針電極をRF励起して大気圧非平衡プラズマ流を生成するペン型プラズマ源を用いて、これまでにHe/CH₄プラズマでDLC局所成膜を試みて膜厚0.6µm、表面硬さ約11GPaを得た。さらに、H₂添加と基板温度上昇により表面硬さ17GPa以上が得られる事を報告している。本研究では基板温度、H₂添加の効果をラマン分光スペクトルのGバンドのピーク位置、バックグラウンド蛍光成分の分析等から明かにする。