2018年第79回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

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[20a-438-1~12] 8.2 プラズマ成膜・エッチング・表面処理

2018年9月20日(木) 09:00 〜 12:15 438 (3Fラウンジ)

布村 正太(産総研)

11:15 〜 11:30

[20a-438-9] 液中プラズマによるナノグラフェン合成におけるヒロドキシル基の効果

近藤 博基1、安藤 睦1、石川 健治1、堤 隆嘉1、平松 美根男2、関根 誠1、堀 勝3 (1.名大院工、2.名城大理工、3.名大未来社会創造機構)

キーワード:液中プラズマ、ナノグラフェン、ヒドロキシル基

液中プラズマによる高い結晶性を有するナノグラフェンの高速合成プロセスにおいて、アルコール原料と炭化水素原料との比較から、合成機構におけるヒドロキシル基の効果を明らかにした。ヒドロキシル基を含むアルコール原料の場合において、合成速度は低下するものの、より高い結晶性を有するナノグラフェンが合成された。これらの結果は、ヒドロキシル基由来の酸素原子によるアモルファス成分の選択的除去を示唆している。