2018年第79回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

13 半導体 » 13.5 デバイス/集積化技術

[20a-CE-1~12] 13.5 デバイス/集積化技術

2018年9月20日(木) 09:00 〜 12:15 CE (センチュリーホール)

森 貴洋(産総研)

09:30 〜 09:45

[20a-CE-3] Reduced Drain-Induced-Barrier-Lowering (DIBL) Variability at High Temperature in Bulk and SOTB MOSFETs

〇(M2)Shuang Gao1、Tomoko Mizutani1、Kiyoshi Takeuchi1、Masaharu Kobayashi1、Toshiro Hiramoto1 (1.IIS, Univ. of Tokyo)

キーワード:variability, temperature, DIBL