Low-temperature fabrication of Ge MOS capacitors for spintronics and flexible electronics application

講演情報

一般セッション(ポスター講演)

13 半導体 » 13.3 絶縁膜技術

2018年9月20日(木) 09:30 〜 11:30 PA (イベントホール)

09:30 〜 11:30

〇(D)Weichen Wen¹、Keisuke Yamamoto¹、Dong Wang¹、Hiroshi Nakashima² (1.IGSES, Kyushu Univ.、2.GIC, Kyushu Univ.)

キーワード：Ge MOS capacitor