[20p-133-1~14] 16.3 Bulk, thin-film and other silicon-based solar cells

△ [20p-133-11] Local Structure of TiO_x/SiO_x/c-Si Heterointerface with Superior Passivation Performance Revealed by Electron Energy Loss Spectroscopy

〇Takeya Mochizuki¹, Kazuhiro Gotoh¹, Yasuyoshi Kurokawa¹, Takahisa Yamamoto¹, Noritaka Usami¹ (1.Graduate School of Eng., Nagoya Univ.)

Keywords:passivation, TiOx, crystalline silicon

近年、原子層堆積法によって作製された酸化チタン（TiO_x）薄膜は高いパッシベーション効果を示すことから、太陽電池応用に向けて注目されている。また、SiO_xをTiO_x/結晶Si界面に導入するとパッシベーション性能が向上することが知られているが、そのメカニズムは明らかにはなっていない。本実験では走査透過型電子顕微鏡と電子エネルギー損失分光法を駆使することで、高いパッシベーション効果とナノスケールの局所的な構造の関係性に着目した。