The 79th JSAP Autumn Meeting, 2018

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Oral presentation

15 Crystal Engineering » 15.6 Group IV Compound Semiconductors (SiC)

[20p-221C-1~15] 15.6 Group IV Compound Semiconductors (SiC)

Thu. Sep 20, 2018 1:45 PM - 6:00 PM 221C (2F_Lounge1)

Shin-Ichiro Kuroki(Hiroshima Univ.), Kazuma Eto(AIST)

4:00 PM - 4:15 PM

[20p-221C-9] Visualization of influence of parameters in solution growth of SiC using machine learning of thermo-fluid analysis

Kentaro Kutsukake1, Yosuke Tsunooka2,3,5, Keiichi Osada2,3, Keisuke Ando2,3, Hongyi Lin2,3, Can Zhu2,3, Taka Narumi2,4, Shunta Harada2,3, Miho Tagawa2,3, Toru Ujihara2,3,5 (1.Inst. Innov. Fut. Soc., Nagoya Univ., 2.IMaSS, Nagoya Univ., 3.Grad. Eng., Nagoya Univ., 4.VBL, Nagoya Univ., 5.AIST GaN-OIL)

Keywords:machine learning, visualization, solution growth

SiC溶液成長では、溶液の複雑な流れを解析するため、有限要素法による熱流体解析が用いられるが、高コストシミュレーションであるため計算に時間がかかる。我々は、熱流体解析結果をニューラルネットワークによって機械学習することで、熱流体解析結果を瞬時にかつ高精度に予測するモデルを構築し、最適な条件の探索に成功している。本研究では、機械学習モデルの高速予測という特徴を活かし、育成条件パラメータ空間内での目的関数(例えば過飽和度)を網羅的に計算し、その分布の可視化を行った。