2018年第79回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

6 薄膜・表面 » 6.2 カーボン系薄膜

[20p-222-1~23] 6.2 カーボン系薄膜

2018年9月20日(木) 13:15 〜 19:30 222 (222)

青野 祐美(防衛大)、針谷 達(豊橋技科大)、寺地 徳之(物材機構)、加藤 有香子(産総研)

17:15 〜 17:30

[20p-222-16] 導電性ハードコーティングに向けた周期的N-DLC/金属積層膜の作製

爲國 公貴1、針谷 達1、出貝 敏1、谷本 壮1、須田 善行1、滝川 浩史1、安井 治之2、金子 智3、國次 真輔4、神谷 雅男5、瀧 真6 (1.豊橋技科大、2.石川工試、3.神奈川県立産総研、4.岡山県工技セ、5.伊藤光学、6.オンワード技研)

キーワード:ダイヤモンドライクカーボン、積層膜、導電性ハードコーティング

本研究では,低抵抗硬質膜の実現のため,窒素含有DLC膜にタングステン(W)膜を組み合わせた積層膜を作製した。積層膜は50 nmずつ交互に積層し,合計層数は8層とした。球面研磨法を用いて膜を摩耗させ,摩耗痕を光学顕微鏡で観察した。また,ソースメータで膜厚方向の電気抵抗率を算出した。N-DLC / W積層膜は単層膜に比べて基板露出径が大きく,研磨に対する耐摩耗性が低下した。一方で,電気抵抗率は単層膜の約半分程度であった。