2018年第79回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

8 プラズマエレクトロニクス » 8.2 プラズマ成膜・エッチング・表面処理

[20p-438-1~21] 8.2 プラズマ成膜・エッチング・表面処理

2018年9月20日(木) 13:45 〜 19:15 438 (3Fラウンジ)

石川 健治(名大)、大村 光広(東芝メモリ)

13:45 〜 14:00

[20p-438-1] 有機錯体生成と錯体熱脱離を用いた酸化ランタンの選択的サイクルエッチング

山口 欣秀1、篠田 和典1、藤崎 寿美子1、高妻 豊2、川村 剛平2、伊澤 勝2 (1.日立研開、2.日立ハイテク)

キーワード:酸化ランタン、ドライエッチング、有機金属錯体

High-k膜として期待される酸化ランタンLa2O3薄膜の高精度選択ドライエッチングの実現に向けて、有機性材料ガスを吸着させて有機ランタン錯体を生成した後、昇温して錯体を熱脱離させる処理の繰り返しによるサイクルエッチングを試みた。講演では、エッチング選択比およびエッチングレートについて言及する。