The 79th JSAP Autumn Meeting, 2018

Presentation information

Oral presentation

8 Plasma Electronics » 8.2 Plasma deposition of thin film, plasma etching and surface treatment

[20p-438-1~21] 8.2 Plasma deposition of thin film, plasma etching and surface treatment

Thu. Sep 20, 2018 1:45 PM - 7:15 PM 438 (3F_Lounge)

Kenji Ishikawa(Nagoya Univ.), Mitsuhiro Omura(Toshiba Memory)

1:45 PM - 2:00 PM

[20p-438-1] Selective Cyclic Etching of Lanthanum Oxide Using Formation and Desorption of Organo-Lanthanum Complex

Yoshihide Yamaguchi1, Kazunori Shinoda1, Sumiko Fujisaki1, Yutaka Kouzuma2, Kohei Kawamura2, Masaru Izawa2 (1.Hitachi, Ltd. R&D group, 2.Hitachi High-technologies)

Keywords:Lanthanum Oxide, Dry Etching, Organometallic Complex

High-k膜として期待される酸化ランタンLa2O3薄膜の高精度選択ドライエッチングの実現に向けて、有機性材料ガスを吸着させて有機ランタン錯体を生成した後、昇温して錯体を熱脱離させる処理の繰り返しによるサイクルエッチングを試みた。講演では、エッチング選択比およびエッチングレートについて言及する。