[20p-438-1~21] 8.2 Plasma deposition of thin film, plasma etching and surface treatment

△ [20p-438-19] Improvement of Uniformity on Microwave Excited Plasma Production Using Slot Antenna

〇Takeshi Aizawa¹, Taishin Shimada¹, Yu Tanakajima¹, Tatsuo Ishijima¹, Yasunori Tanaka¹, Yoshihiko Uesugi¹ (1.Kanazawa Univ.)

Keywords:maicrowave plasma, ashing, pulse modulation

我々は、新規レジスト除去の手法として水を原料ガスとするスロットアンテナ励起によるマイクロ波プラズマの研究開発を進めている。スロットアンテナ励起のマイクロ波プラズマは、スリットに沿って楕円形状に生成される。その為、円形ウェハに対して中心部と外周部のアッシングレートの差異が生じる課題がある。そこで、スロットアンテナの形状を見直し、アッシングレートの面内均一性を改善する試みを行ったので報告する。