2018年第79回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

8 プラズマエレクトロニクス » 8.2 プラズマ成膜・エッチング・表面処理

[20p-438-1~21] 8.2 プラズマ成膜・エッチング・表面処理

2018年9月20日(木) 13:45 〜 19:15 438 (3Fラウンジ)

石川 健治(名大)、大村 光広(東芝メモリ)

18:30 〜 18:45

[20p-438-19] スロットアンテナマイクロ波励起プラズマにおける均一性の改善

相澤 洸1、島田 大伸1、田中島 優1、石島 達夫1、田中 康規1、上杉 喜彦1 (1.金沢大自然)

キーワード:マイクロ波プラズマ、アッシング、パルス変調

我々は、新規レジスト除去の手法として水を原料ガスとするスロットアンテナ励起によるマイクロ波プラズマの研究開発を進めている。スロットアンテナ励起のマイクロ波プラズマは、スリットに沿って楕円形状に生成される。その為、円形ウェハに対して中心部と外周部のアッシングレートの差異が生じる課題がある。そこで、スロットアンテナの形状を見直し、アッシングレートの面内均一性を改善する試みを行ったので報告する。