The 79th JSAP Autumn Meeting, 2018

Presentation information

Oral presentation

8 Plasma Electronics » 8.2 Plasma deposition of thin film, plasma etching and surface treatment

[20p-438-1~21] 8.2 Plasma deposition of thin film, plasma etching and surface treatment

Thu. Sep 20, 2018 1:45 PM - 7:15 PM 438 (3F_Lounge)

Kenji Ishikawa(Nagoya Univ.), Mitsuhiro Omura(Toshiba Memory)

7:00 PM - 7:15 PM

[20p-438-21] Influence of plasma gas temperature and gas species on surface treatment using atmospheric pressure plasma

Shohei Moriya1, Yusuke Iijima1, Yuma Suenaga1, Shunsuke Watanabe2, Hidekazu Miyahara3, Chiaki Sato2, Akitoshi Okino1 (1.Tokyo Tech FIRST, 2.Tokyo Tech MSL, 3.School of Science, Tokyo Univ.)

Keywords:plasma, surface treatment, Hydrophilization

大気圧低温プラズマによる表面処理効果はプラズマ中で生成される活性種が材料表面に作用することで現れ,その活性種の種類や量はプラズマのガス種およびガス温度によって変化することが明らかになっている。本研究では,処理効果の向上や機序解明のために,ガス種とガス温度を制御したプラズマを用いて表面処理効果の評価を行った。