2018年第79回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

6 薄膜・表面 » 6.4 薄膜新材料

[21a-234B-1~9] 6.4 薄膜新材料

2018年9月21日(金) 09:15 〜 11:45 234B (234-2)

鈴木 宗泰(産総研)

10:00 〜 10:15

[21a-234B-4] ダイナミックオーロラPLD法を用いたペロブスカイト型酸窒化物薄膜の作製

川口 昂彦1、青島 楓汰1、坂元 尚紀1、鈴木 久男1、脇谷 尚樹1 (1.静大院工)

キーワード:薄膜、PLD、酸窒化物

SrTaO2Nは、エピタキシャル歪みの導入により強誘電特性の発現が報告されている。我々はこれまでに、ダイナミックオーロラPLD法を用いて、プラズマ供給源を用いずに窒化物ターゲットのみから遷移金属窒化物薄膜の作製に成功している。本手法は窒化物のみならず酸窒化物の薄膜成長にも有用であることが期待される。そこで今回、ダイナミックオーロラPLD法を用いて、酸窒化物であるSrTaO2N薄膜の作製を行ったので報告する。