2018年第79回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

13 半導体 » 13.1 Si系基礎物性・表面界面・シミュレーション

[21p-135-1~16] 13.1 Si系基礎物性・表面界面・シミュレーション

2018年9月21日(金) 13:00 〜 17:15 135 (135)

上野 智雄(農工大)、嵯峨 幸一郎(ソニー)

15:15 〜 15:30

[21p-135-9] シリコン表面上の有機物吸着・脱離に対する温度の影響

堀 健太1、周 一帆1、羽深 等1 (1.横国大院理工)

キーワード:有機物、吸着脱離、温度

フタル酸ジエチル(DEP)のシリコン表面への脱離挙動が温度により変化する様子について観察したので、その詳細を報告する。