2018年第79回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

13 半導体 » 13.3 絶縁膜技術

[21p-145-1~14] 13.3 絶縁膜技術

2018年9月21日(金) 13:15 〜 17:00 145 (レセプションホール)

山本 圭介(九大)、堀田 育志(兵庫県立大)

13:15 〜 13:30

[21p-145-1] [Young Scientist Presentation Award Speech] Thermal oxidation kinetics of Ge under high O2 pressure

Xu Wang1、Tomonori Nishimura1、Takeaki Yajima1、Akira Toriumi1 (1.Tokyo Univ.)

キーワード:Germanium, thermal oxidation