2018年第79回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

13 半導体 » 13.3 絶縁膜技術

[21p-145-1~14] 13.3 絶縁膜技術

2018年9月21日(金) 13:15 〜 17:00 145 (レセプションホール)

山本 圭介(九大)、堀田 育志(兵庫県立大)

16:00 〜 16:15

[21p-145-11] 三色超構造の各界面が容量-電圧特性に与える影響

佐伯 郁弥1、吉田 晴彦1、新船 幸二1、佐藤 真一1、堀田 育志1 (1.兵庫県大)

キーワード:界面双極子、MOS、High-k