[21p-145-1~14] 13.3 絶縁膜技術

[21p-145-5] Kr/O₂プラズマ酸化法を用いたHfO₂/Ge構造の作製及び評価

〇(M1)所附 武志¹、岩崎 好考¹、上野 智雄¹ (1.東京農工大工)

キーワード：ゲルマニウム