2018年第79回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

6 薄膜・表面 » 6.2 カーボン系薄膜

[21p-232-1~18] 6.2 カーボン系薄膜

2018年9月21日(金) 13:15 〜 18:00 232 (232)

徳田 規夫(金沢大)、鈴木 真理子(コーンズテクノロジー)、竹内 大輔(産総研)、宮崎 久生(東芝)

14:45 〜 15:00

[21p-232-7] 電子スピン共鳴による(111)面Diamond/Al2O3界面欠陥の検出

〇(DC)真栄 力1、加藤 宙光2、牧野 俊晴2、山崎 聡2、梅田 享英1 (1.筑波大数理、2.産総研)

キーワード:ダイヤモンド、界面欠陥、MOSFET

スマートグリッド社会の実現に向けて、バリガ指数でSiCやGaNを凌駕するダイヤモンドを用いた反転層型MOSFETの研究開発が進められている。(111)面リンドープn型ダイヤモンド上に形成したAl2O3ゲート絶縁膜構造で動作実証に至ったが、現状では多くの界面欠陥の存在が示唆されている。本研究ではダイヤモンド/絶縁膜の界面欠陥を電子スピン共鳴分光法を用いて検出した。発表では界面欠陥ESR信号の詳細な解析結果や起源の議論を行う予定である。