2018年第79回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

13 半導体 » 13.7 化合物及びパワー電子デバイス・プロセス技術

[21p-331-1~8] 13.7 化合物及びパワー電子デバイス・プロセス技術

2018年9月21日(金) 13:45 〜 16:00 331 (国際会議室)

久保 俊晴(名工大)

15:00 〜 15:15

[21p-331-5] Siと接合したダイヤモンド基板上のFETの作製

梁 剣波1、桝谷 聡士2、藤居 大樹3、金 聖祐3、嘉数 誠2、重川 直輝1 (1.大阪市大院工、2.佐賀大院工、3.アダマンド並木精密宝石株式会社)

キーワード:ダイヤモンド、表面活性化接合、ダイヤモンド/Si直接接合