[21p-PB1-1~18] 8.2 プラズマ成膜・エッチング・表面処理

[21p-PB1-6] ターゲット有効利用のための回転型二重マグネトロンスパッタ装置の開発

〇(M2)中村 優太朗¹、田中 黎¹、大津 康徳¹ (1.佐大院工)

キーワード：スパッタリング、マグネトロンプラズマ