重松理史

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発表者・著者、共著者

2018年3月18日(日) 13:15 〜 19:30 D103 (56-103)

一般セッション(口頭講演)
| 15 結晶工学
| 15.7 結晶評価，不純物・結晶欠陥

[18p-D103-1~23] 15.7 結晶評価，不純物・結晶欠陥

14:15 〜 14:30

△ [18p-D103-5] 分子イオン注入エピウェーハの製品特性（５）
-3次元アトムプローブを用いたCH₃Oイオン注入ウェーハに形成される注入欠陥のゲッタリング挙動解析-

〇重松理史¹、奥山亮輔¹、廣瀬諒¹、門野武¹、小林弘治¹、柾田亜由美¹、古賀祥泰¹、奥田秀彦¹、栗田一成¹ (1.SUMCO)