Kosuke Oshinari

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発表者・著者、共著者

2018年3月20日(火) 09:15 〜 12:15 C101 (52-101)

一般セッション(口頭講演)
| 13 半導体
| 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・配線・MEMS・集積化技術

[20a-C101-1~11] 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・配線・MEMS・集積化技術

10:00 〜 10:15

▲ [20a-C101-4] Reduction in Connecting Resistivity of Intermediate Adhesive Layer by SF₆Plasma Treatment for Mechanical Stacking Multi Junction Solar Cells

〇(B)Kosuke Oshinari¹、Masaki Kondo¹、Mamiko Yagi¹、Masahiko Hasumi¹、Wakana Kubo¹、Junichi Shirakashi¹、Toshiyuki Sameshima¹、Mohamed Amara² (1.TUAT、2.INSA)