09:00 〜 09:15 [20a-C102-1] 六方晶窒化ホウ素上におけるVO₂薄膜の成長と評価 〇玄地 真悟1、山本 真人1、神吉 輝夫1、渡邊 賢司2、谷口 尚2、田中 秀和1 (1.阪大産研、2.物材機構)