一般セッション(口頭講演)
21 合同セッションＫ「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」 » 21.1 合同セッションＫ 「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」
09:00 〜 09:30
〇藤井 茉美1 (1.奈良先端大)
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09:30 〜 09:45
〇木瀬 香保利1、藤井 茉美1、Bermundo Juan Polo1、石河 泰明1、浦岡 行治1 (1.奈良先端大)
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09:45 〜 10:00
〇阿部 宏之1、馬 騰2、但木 大介3、平野 愛弓2,3、木村 康男4、庭野 道夫5 (1.宮城県産技セ、2.東北大材料科学高等研、3.東北大通研、4.東京工科大工、5.東北福祉大)
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10:00 〜 10:15
〇小森 健太1、岡田 広美1、藤井 茉美1、三輪 一元2、小野 新平2、フアン パオロ ソリア ベルムンド1、石河 泰明1、浦岡 行治1 (1.奈良先端科学技術大学院大学、2.電力中央研究所)
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10:15 〜 10:30
髙橋 崇典1、宝賀 剛1、宮永 良子2、藤井 茉美2、石河 泰明2、浦岡 行治2、〇内山 潔1 (1.鶴岡高専、2.奈良先端大)
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10:45 〜 11:00
〇井手 啓介1、太田 雅人1、岸田 陽介1、片瀬 貴義1、平松 秀典1,2、上田 茂典3、雲見 日出也2、細野 秀雄1,2、神谷 利夫1,2 (1.東工大フロ研、2.東工大元素、3.物質・材料研究機構)
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11:00 〜 11:15
〇Juan Paolo Soria Bermundo1、Chaiyanan Kulchaisit1、Mami Fujii1、Hiroshi Ikenoue2、Yasuaki Ishikawa1、Yukiharu Uraoka1 (1.NAIST、2.Kyushu Univ.)
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11:15 〜 11:30
〇清水 耕作1、小田倉 卓也1、森本 俊夫2、中山 徳行2、白石 真菜2 (1.日本大学、2.住友金属鉱山(株）)
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11:30 〜 11:45
〇(M1)高森 悠圭1,3、森本 貴明1,3、福田 伸子3、大木 義路1,2 (1.早大先進理工、2.早大材研、3.産総研FLEC)
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11:45 〜 12:00
〇(M1)東 龍之介1、田中 宏怜1、髙橋 誠一郎3、八島 勇3、古田 守1,2 (1.高知工科大学、2.総研、3.三井金属鉱業株式会社)
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12:00 〜 12:15
〇田中 佑典1、藤井 武則2、和田 一啓1、清水 将乃斗1、廣地 佑介1、加瀬 直樹1、田村 隆治3、サリーム デンホルム1、君塚 昇4、宮川 宣明1 (1.東理大理、2.東大低温セ、3.東理大基礎工、4.ソノラ大)
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