シンポジウム(口頭講演)
[18p-C204-1~9] 二次元シート合成とプラズマプロセス～超薄膜から原子層まで～
2018年3月18日(日) 13:45 〜 18:00 C204 (52-204)
△：奨励賞エントリー
▲：英語発表
▼：奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄：どちらもなし
13:45 〜 14:00
〇加藤 俊顕1,2 (1.東北大院工、2.JST さきがけ)
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14:00 〜 14:30
〇本間 芳和1、 齋藤 裕太1、 田中 湧一郎1、 清水 麻希1、 千足 昇平2 (1.東理大理、2.東大工)
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14:30 〜 15:00
〇吾郷 浩樹1 (1.九大GIC)
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15:00 〜 15:30
〇近藤 博基1、 平松 美根男2、 堀 勝3 (1.名大院工、2.名城大理工、3.名大未来社会創造機構)
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15:30 〜 16:00
〇若林 整1 (1.東京工業大学)
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16:15 〜 16:45
〇渡邊 賢司1、 谷口 尚1 (1.物質・材料研究機構)
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16:45 〜 17:15
〇板垣 奈穂1、 岩崎 和也1、 古閑 一憲1、 白谷 正治1 (1.九大シス情)
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17:15 〜 17:45
〇節原 裕一1、 遠藤 雅1、 竹中 弘祐1、 内田 儀一郎1、 江部 明憲2 (1.阪大接合研、2.イー・エム・ディー)
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17:45 〜 18:00
〇長谷川 雅考1 (1.産総研)
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