2018年第65回応用物理学会春季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

13 半導体 » 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・配線・MEMS・集積化技術

[17p-C101-1~6] 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・配線・MEMS・集積化技術

2018年3月17日(土) 16:00 〜 17:30 C101 (52-101)

東 清一郎(広島大)

16:00 〜 16:15

[17p-C101-1] Ge薄膜のFLA結晶化におけるキャップ層の効果

〇(B)秋田 佳輝1、部家 彰1、松尾 直人1、小濱 和之2、伊藤 和博2 (1.兵県大工、2.大阪大工)

キーワード:半導体、結晶化、Ge